刻蚀机打入台积电5纳米产线！中微获得的认可不止这些

台积电5纳米产线进展迅猛，预计将于2020年实现量产。而国产半导体设备的佼佼者中微半导体自主研制的5纳米等离子体刻蚀机在近日通过台积电验证，性能优良，将用于全球首条5纳米制程生产线。在此之前，台积电7纳米芯片生产线也早已用上中微的刻蚀机。作为芯片制造的关键装备之一，中微半导体打入台积电供应链，证明国产半导体设备力量正在逐渐壮大。

作为芯片生产制造的重要设备，等离子刻蚀机用来按光刻机刻出的电路结构，在硅片上进行微观雕刻，刻出沟槽或接触孔的设备。其对加工精度的要求非常高，加工精度是头发丝直径的几千分之一到上万分之一。

2004年，尹志尧博士与杜志游博士、倪图强博士、麦仕义博士等40多位半导体设备专家创办了中微公司。当时，世界上最先进的芯片生产线是90纳米制程，但中微创立之初就开始研发40纳米刻蚀机，超前两代开展自主研发，同时经过海外引进和本土培养了强大的研发团队，为刻蚀机研发这一系统工程奠定了基础。

如今，中微与泛林、应用材料、东京电子、日立4家美日企业一起，组成了国际第一梯队，为全球最先进芯片生产线供应刻蚀机。刻蚀机曾是西方发达国家的出口管制产品，但近年来，由于中微的出色表现，这种高端装备在出口管制名单上消失了，证明只要我们突破技术壁垒，就不会再受限于人。

事实上，中微不止在刻蚀机市场进入国际一流供应商阵容，其多个半导体市场也获得了客户极高的评价。市场研究机构VLSIresearch 12月发布的2018年度客户满意度调查（简称“CSS”）年终大盘点中，中微在全球薄膜沉积设备供应商排名中荣登榜首，在刻蚀和清洗设备供应商排名中位列第二，在台湾晶圆制造设备供应商排名中也仅次于荷兰半导体设备巨头ASML。

 这次VLSI的年终大盘点中介绍了更多关于2018年度客户满意度调查的细节。VLSI从1988年开始每年都会举办这项客户满意度调查，这是业内唯一一项让不同地区的客户对它们全球的半导体设备和子系统的供应商进行匿名反馈的调查，主要以供应商表现、客户服务和产品性能为评判标准进行排名。上榜企业名单中有来自美国、欧洲、亚洲和以色列的企业，中微是其中唯一一家中国本土的半导体设备公司。

虽然我国在半导体材料和设备上与国外先进仍有巨大差距，但是以中微为代表的国产化替代也在逐步进行中，相信未来，类似的技术突破将会越来越多，并最终实现从量变到质变的转化。