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​美光扩大NAND产能,将率先使用1z nm制程生产DDR4

* 来源 : * 作者 : admin * 发表时间 : 2019-08-19
美国美光宣布将率先采用全新的 1z nm 制程生产单颗 16Gb 的 DDR4 记忆体,相较现行 1y nm 制程, 1z nm 制程能够进一步提升性能并降低成本。此外,位于新加坡的 Fab 10 记忆体生产厂房也在上周完成扩建,预计在 2019 年开始进行量产,不过工厂扩建计划与生产计划是评估市场需求后的结果,美光在扩建后并无剧烈增加产能的规划。
美光强调 1z nm 制程将达到业界最小尺寸,可作为生产常规型的 DDR4 、针对行动装置的 LPDDR4 与图形产品的 GDDR4 产品线等,当前 1z nm 的 16Gb DDR4 相对采用 1y nm 的 DDR4 能够降低 40% 功耗。美光计划透过 1z nm 量产行动装置用的 16Gb LPDDR4X 颗粒,并提供基于 UFS 规范的 uMCP4 封装, uMCP4 封装可在单一封装堆叠 8 颗晶圆,实现 16GB RAM 的最大容量,较现行 LPDDR4 提升一倍。同时采用 1z nm 的 LPDDR4X 不仅具备低功耗特色,还具备达 4,266Mbps 的传输性能,对于高 RAM 传输应用如 4K 影像拨放可较 1y nm 世代降低约 10% 功耗。美光也预计提供基于 1z nm 晶片、混合 RAM 与储存的解决方案,将自 3GB RAM 搭配 64GB 储存到最大 8GB RAM 搭配 256GB 储存等八种配置。