日经：三菱瓦斯化学将在中国新建半导体清洗液工厂

据日经亚洲评论2月12日报道，三菱瓦斯化学将在中国大陆新建半导体清洗液工厂。该产品用于在半导体的生产过程去除微小杂质。

三菱瓦斯化学在全球市场占有约五成份额，位居第一。近年来，随着新一代通信网络不断实用化和物联网（IoT）的普及，全球对半导体的需求十分旺盛。三菱瓦斯化学将强化相关产品的供应体制，抓住不断扩大的需求。
中国大陆的新工厂计划最早于2022年上半年投产，投资额未予公开。新工厂生产的是“超纯过氧化氢”。过氧化氢一般用于消毒液等，提高其纯度可生产超纯过氧化氢。在半导体的生产过程中，需要在不破坏微细半导体结构的情况下清除细小杂质，作为清洗液离不开超纯过氧化氢。该产品也用于研磨和蚀刻等工序。
预计中国大陆的年产能将达到9万吨，以抓住半导体产业不断增长的本土需求。三菱瓦斯化学已开始在日本、韩国、中国台湾、美国、新加坡等国家和地区生产超纯过氧化氢。加上中国大陆的产能，全球总体年产能将增加16%，达到64.4万吨。
据介绍，三菱瓦斯化学在全球超纯过氧化氢市场拥有约五成份额。还预定最早于2023年在中国台湾启动新的原料工厂，推进在当地建立一条龙生产体制的计划等，目前正在大力完善供应链。