DNP研发3纳米EUV用光罩

目标供应给台积电(2330)、三星电子？日厂大日本印刷(DNP)宣布研发出3纳米(nm)极紫外光(EUV)微影用光罩、2030年营收目标100亿日圆。
DNP 12日宣布，已研发出3nm EUV微影用光罩，除全球半导体厂商之外，也将供应给半导体制造设备厂、材料厂，2030年的年营收目标为100亿日圆，且今后也将和imec等伙伴合作、推动2nm以后的光罩研发。
根据Yahoo Finance的报价显示，截至台北时间12日上午12点50分为止，DNP下跌0.21%至4,262日圆，今年迄今DNP股价累计飙涨近61%。
据日经新闻报导，DNP研发的3nm EUV用光罩产品当前将供应给半导体设备厂商、材料厂商用于研发，未来目标贩售给半导体厂商。目前全球能量产3nm晶片的厂商仅有台湾台积电和南韩三星电子，不过该两家半导体厂皆内制(自家生产)光罩。
据报导，扣除内制的半导体大厂不算、日本DNP和TOPPAN Holdings合计握有全球近5成光罩市占，而美国Photronics、日本Hoya也拥有高市占率。
据调查公司Global Information指出，2029年全球光罩市场规模预估将达77亿3,928万美元、将较2022年增加39%。