日本传113亿补贴美光先进晶片厂

外媒引述消息指，日本政府将补贴2,000亿日圆（约113亿港元），助美光科技（Micron）在广岛工厂引入极紫外光（EUV）光刻机，建立业界最先进的“1-gamma”工艺生产线。另有日本官员透露，包括台积电、英特尔在内的海外半导体大厂均有意加大在日投资。
美光将于日本广岛工厂投资5,000亿日圆，建设采用了荷兰ASML的EUV光刻机先进生产线，料于2025年起正式投入生产。EUV光刻机是生产先进半导体不可或缺的设备，受美国的技术出口禁令影响，当前中国企业已无法获得EUV光刻机。