美光抢先支持 Canon 纳米半导体印刷，威胁 ASML 曝光市场
* 来源 : * 作者 : admin * 发表时间 : 2024-03-05
美商存储器大厂美光 (Micron) 计划首先支持日本佳能 (Canon) 的纳米半导体印刷技术，希望藉此进一步降低生产 DRAM 存储器的成本。
外媒报导，美光日前举办演讲，介绍纳米半导体印刷用于 DRAM 生产的细节，DRAM 制程和沉浸式曝光解析度，也就是 Chop 层数不断增加，代表必须增加更多曝光步骤，以取出密集存储器阵列周围虚假结构（dummy structures）。
由于光学系统特性，DRAM 层图案很难用光学曝光画图案，纳米半导体列印可更精细列印图案，且纳米半导体印刷成本是沉浸式曝光 20%，是颇佳解决方案。但纳米半导体印刷并不能在存储器生产所有阶段取代传统曝光，两者并非纯粹竞争关系，但至少降低单技术操作成本。
Canon 2023 年 10 月公布 FPA-1200NZ2C 纳米半导体印刷（NIL）设备，社长御手洗富士夫表示，纳米半导体印刷问世，为小型半导体制造商生产先进晶片开辟新途径。半导体设备业务经理岩本和德表示，纳米半导体印刷是指将有半导体电路图的光罩压印至晶圆，只需一个印记就可在适当位置形成复杂 2D 或 3D 电路图，只需改进光罩，甚至能生产 2 纳米晶片。
外媒报导，美光日前举办演讲，介绍纳米半导体印刷用于 DRAM 生产的细节，DRAM 制程和沉浸式曝光解析度，也就是 Chop 层数不断增加，代表必须增加更多曝光步骤，以取出密集存储器阵列周围虚假结构（dummy structures）。
由于光学系统特性，DRAM 层图案很难用光学曝光画图案，纳米半导体列印可更精细列印图案，且纳米半导体印刷成本是沉浸式曝光 20%，是颇佳解决方案。但纳米半导体印刷并不能在存储器生产所有阶段取代传统曝光，两者并非纯粹竞争关系，但至少降低单技术操作成本。
Canon 2023 年 10 月公布 FPA-1200NZ2C 纳米半导体印刷（NIL）设备，社长御手洗富士夫表示，纳米半导体印刷问世，为小型半导体制造商生产先进晶片开辟新途径。半导体设备业务经理岩本和德表示，纳米半导体印刷是指将有半导体电路图的光罩压印至晶圆，只需一个印记就可在适当位置形成复杂 2D 或 3D 电路图，只需改进光罩，甚至能生产 2 纳米晶片。
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