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可达上千亿美元市场规模,三星 2025 年率先进入 3D DRAM

* 来源 : * 作者 : admin * 发表时间 : 2024-04-01
外媒 Semiconductor Engineering 报导,三星电子于产业会议 Memcon 2024 表示,2025 年后进入 3D DRAM 时代。
DRAM 产业将于 2030 年前将制程压缩至 10 奈米以下,现有设计方案更难扩展。厂商正在开发 3D DRAM 多种创新型设计,以提高记忆体性能。
三星展示两项 3D DRAM 技术,包括垂直通道电晶体(Vertical Channel Transistor)和堆叠 DRAM(Stacked DRAM)。相较传统电晶体结构,垂直通道电晶体将通道从水准变为垂直,大幅减少元件面积,但提升刻蚀精确度要求。
相较 2D DRAM 结构,堆叠 DRAM 可充分利用 Z 轴向空间,较小面积容纳更多存储单元,单晶片容纳提升至 100G 以上。3D DRAM 市场发展,有望 2028 年达千亿美元规模。为了与其他记忆体制造商竞争,三星年初在美国矽谷设立新 3D DRAM 研发实验室,以开发先进记忆体。