韩媒：魏哲家密访ASML总部 2纳米以下制程竞赛开打

韩国媒体BusinessKorea报导，业界消息来源与外国媒体26日披露，中国台湾台积电总裁魏哲家23日没有出席在台北举行的“台积电2024技术论坛”，秘密访问艾司摩尔（ASML）荷兰总部以及德国工业雷射公司TRUMPF，随着英特尔、中国台湾台积电与三星3大半导体代巨头抢夺下一代设备的竞争升温，2纳米以下超先进制程的竞赛已经开打。
报导说，魏哲家的秘密行程是透过阿斯麦执行长富凯（Christophe Fouquet）与TRUMPF执行长卡穆勒（Nicola Leibinger-Kammuller）在社群媒体上发布而曝光。富凯写道：“我们向魏总裁介绍我们最新技术与产品，包括高数值孔径（High NA）极紫曝光机（EUV）设备将如何实现未来半导体的微制程技术”。
当地媒体与台湾业界人士分析，“这显示台积电的管理阶层果断决定访问阿斯麦，以确保全球半导体的主导地位”，他们补充，“随着曝光设备在7纳米以下先进制程的重要性加剧，台积电似乎已加入这场抢夺先进设备的竞赛”。
据悉，台积电考虑在1.6纳米以下（A16）制程产品采用高数值孔径EUV设备，预计2026年下半年量产相关产品，在此之前则采用现有的低数值孔径EUV设备。
在英特尔去年成为第一家取得艾司摩尔高数值孔径EUV设备后，这场抢夺相关设备的竞赛加剧，业界预期英特尔将在其1.4纳米（14A）制程完全使用高数值孔径EUV。
三星电子也行动积极，近期三星电子会长李在镕访问阿斯麦及其关键供应商蔡司，以强化“三角半导体同盟”。