ASML 新一代光刻机！解析度胜现有机种六成

总部位于荷兰的阿斯麦公司 （ASML）与比利时芯片研究公司 Imec 合作，在荷兰费尔德霍芬开设了一个 High NA EUV 光刻机的测试实验室。这个历时多年打造的实验室，耗资 3.5 亿欧元，将让芯片制造商龙头及相关设备和材料供应商，有机会提早接触到这款独一无二的设备。
作为全球最大的芯片制造设备供应商，ASML 主宰光刻机领域。在芯片制程中，光刻机扮演关键角色，利用光束在晶圆上制造出芯片的回路。目前，仅有中国台湾台积电、三星、Intel以及记忆体制造商SK 海力士和三星，具备使用 ASML 现有极紫外光（EUV）机种的能力。
这款新一代 High NA 设备解析度可较现有机种提升高达6 0%，因此有望带来新一代更小更快的芯片。ASML 重申，预期客户将在 2025 至 2026 年开始使用这项设备进行商业量产。目前仅出货过一台测试机给美国英特尔，将用在 2025 年的 14A 制程。
虽然 ASML 已接获超过 12台 High NA 设备订单，但公司最大的 EUV 设备客户台积电表示，在2025 年量产 A16 芯片时暂不需使用 High NA 设备。