美光 2024 年将在 1γ 制程进行 EUV 技术试产

不同于其他半导体大厂，存储器厂商美光 (Micron) 并不急于为 DRAM 导入 EUV (极紫外光) 曝光技术，目前该公司所有量产产品都是采用 DUV (深紫外光) 曝光机所制造的。不过，美光最终还是无法避免使用 EUV 曝光技术，并预计于 2024 年开始，在其 10 纳米级的 1γ 制程技术上进行 EUV 曝光技术的试生产，美光也预计该制程技术于 2025 年进入大规模量产的阶段。
先前，美光执行长 Sanjay Mehrotra 在财报会议上就表示，采用 EUV 曝光技术的 10 纳米级 1γ 制程DRAM 试产进展顺利，我们正按计划于 2025 年实现量产。现阶段，美光正在日本广岛工厂开发采用 EUV 曝光技术的 10 纳米级 1γ 制程的 DRAM 制造技术，这也是首批 1γ 存储器的试产地。
Sanjay Mehrotra 还曾经表示，美光正在不断改进使用 EUV 曝光技术的生产能力，并在 1α 和 1β 制程技术上达成了使用 EUV 和非 EUV 制程技术的良率和品质强化。而除了采用 EUV 曝光技术的 1γ 和 1δ 制程技术之外，美光还打算在未来几年发展 3D DRAM 的架构，以及用于 DRAM 生产的 High-NA EUV 曝光技术。
在先前的财报会议上，美光公布了截至 2024年 5 月 30 日的第三季业绩。资料显示，由于 AI 领域持续高速发展，除储存解决方案需求进一步攀升，使美光资料中心营收如虎添翼，该季的总营收达到 68.1 亿美元，较 2023 年同期大幅增加 81.6%，优于分析师预期的 66.7 亿美元。另外，展望截至 2024 年 8 月底的第四季，美光预计营收落在 74 亿到 78 亿美元之间，区间中位数基本符合分析师预期的 75.8 亿美元数字。