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英特尔CEO:将接收ASML第二部新型High-NA EUV工具

* 来源 : * 作者 : admin * 发表时间 : 2024-08-06
英特尔行政总裁Pat Gelsinger透露,公司将接收ASML的第二部新型High-NA EUV(高数值孔径极紫外光)工具,涉投资3.5亿欧元(约3.83亿美元)。
英特尔于去年12月接收第一部大型机器,安装需要数月时间,预计将支援新一代更强大的电脑芯片。
ASML 是全球最大的半导体设备供应商,对于具体客户的购买情况,ASML 选择不予置评。ASML 高层在7月17日表示,公司已开始向一位未具名客户运送第二台 High NA 曝光机,并计划今年仅记录第一台和可能的第二台设备的收入。ASML 成功推出 High NA 技术对于其未来发展至关重要,但目前仍有一些疑虑关于客户的实际使用时间。
ASML 拥有来自台积电(TSMC)、三星(Samsung)、英特尔以及存储器芯片专家 SK 海力士(SK Hynix)和美光(Micron)等主要半导体制造商的超过十台 High NA 设备订单。英特尔计划在2027年开始商业化使用这项技术。台积电也将在今年收到一台此类设备,但尚未透露具体的生产使用时间。
此外,ASML 执行长 Christophe Fouquet 于7月17日指出,DRAM 存储器芯片制造商如三星、SK 海力士或美光,可能会在2025年或2026年开始使用 High NA 技术。