台积电首台高数值孔径EUV设备将于本月抵台

据半导体业界消息，中国台湾台积电将于本月引进首台高数值孔径极紫外光（High NA EUV）微影设备。

业界透露，台积电的第一台High NA EUV微影设备计划在9月运抵，并有望在A16纳米制程中使用。这一设备的采购成本相当高，一台设备的价格超过百亿元人民币。台积电的采购团队，包括董事长兼总裁魏哲家及新任资材管理副总经理李文如，已对设备价格进行了15%的议价。

此外，High NA EUV设备体积庞大，目前正在研究如何安全运输至台湾及竹科厂区，包括如何通过园区高速公路等问题，需进行详细规划。

阿斯麦（ASML）产品管理副总裁Greet Storms上周表示，公司已收到多家客户的High NA EUV设备订单，并将与客户密切合作，计划于2026年实现量产。她强调，High NA EUV设备将简化制程工序，提升能源效率，从而为客户降低生产成本。