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铠侠将于IEDM 2024发布新兴存储器技术

* 来源 : * 作者 : admin * 发表时间 : 2024-10-23

展示AI、运算和储存系统的创新应用


东京,2024年10月23日—(BUSINESS WIRE)—(美国商业资讯)—铠侠公司,作为全球存储器解决方案的领军企业,今日宣布其研究论文已被IEEE国际电子器件会议(IEDM)2024接受发表。IEDM 2024是一场备受瞩目的国际会议,定于12月7日至11日在美国旧金山举行。
铠侠专注于半导体存储器的研发,这对于人工智能的进步和社会数字化转型具有至关重要的作用。除了其领先的3D闪存技术BiCS FLASH™之外,铠侠在新兴存储器解决方案的研究领域也成果显著。公司不懈努力,致力于推出创新的存储器产品,以满足未来运算和储存系统的需求。
当前的运算系统主要依赖DRAM(一种关键的存储器设备,使CPU能够迅速处理数据)和闪存来存储大量数据。铠侠正在引领储存级存储器(SCM)的研发工作,SCM位于半导体存储器层次结构中的DRAM和闪存之间,旨在以比DRAM更大的容量和比闪存更快的速度处理数据。
在IEDM会议上,铠侠将展示针对这三种半导体存储器定制的尖端技术:(1)采用氧化物半导体的新型DRAM,重点在于降低功耗;(2)适用于更大容量SCM应用的MRAM;以及(3)具备更高位元密度和性能的新型3D闪存结构。

新兴存储器技术包括:
1. 氧化物半导体通道晶体管DRAM(OCTRAM):该技术由中国台湾南亚科技与铠侠共同开发。两家公司研发了一种垂直晶体管,通过改进制造工艺提高了电路集成度。利用氧化物半导体的特性,提升了晶体管的性能,并实现了极低的电流泄漏。这有望降低包括AI和后5G通信系统以及物联网产品在内的各种应用的功耗。
论文标题:具有4F2架构的氧化物半导体通道晶体管DRAM(OCTRAM)(论文编号:6-1)
2. 高容量交叉点MRAM技术:该技术由SK海力士与铠侠共同开发。通过这项技术,两家公司结合了大容量选择器与磁性隧道结单元技术,并应用交叉点型阵列的精细加工技术,在MRAM最小的单元半间距20.5纳米规模上实现了单元读/写操作。随着单元的小型化,存储器的可靠性往往会降低。两家公司采用了一种新的读取方法,利用选择器的瞬态响应并降低了读取电路的寄生电容,开发出了一种潜在的解决方案。这项技术在AI和大数据处理方面具有实际应用价值。
论文标题:全球最细小1选择器-1MTJ单元,适用于64 Gb交叉点MRAM的可靠存储器操作和低读取干扰率(论文编号:20-1)
3. 采用水平单元堆叠结构的下一代3D存储器技术:铠侠开发了一种新的3D结构,以提高可靠性并防止NAND型单元性能下降。与传统结构中堆叠层数增加通常导致性能下降不同,新结构通过水平排列NAND型单元来实现堆叠。这种结构以低成本实现了高位元密度和高可靠性的3D闪存。
论文标题:先进水平通道闪存的卓越可扩展性,适用于未来3D闪存(论文编号:30-1)
有关IEDM的更多详情,请访问:https://www.ieee-iedm.org/
铠侠的使命是“以‘存储器’提升世界”,旨在通过存储器技术开启新时代,并将继续推动研发,以支持数字社会的未来发展。