三星与SK海力士调整EUV策略：反映不同经营境遇

韩国的两大半导体巨头三星和SK海力士针对极紫外线（EUV）光刻技术采取了不同的策略，这一现象引发了业界的广泛关注。这两家公司不同的EUV策略正值市场竞争极为激烈的时期，从中能够看出它们各自的经营状况。
据韩国媒体BusinessKorea报道，三星进行了组织重整计划，在其全球制造和基础设施总部下成立了一个名为“EUV Synergy TF”的新工作小组（TF）。这一举措被视为提高先进制程良率的行动。EUV Synergy TF的任务是管理EUV设备，提升光刻曝光和跟踪设备的使用率，目标是最大限度地提高EUV各类材料和零部件的良率，这其中涵盖了阿斯麦（ASML）独家价值200亿美元的光刻曝光机，以及东京电子（TEL）的EUV轨道。
三星承诺对EUV进行大量投资，其在华城和平泽的工厂都购置了30多台EUV设备。这些设备以13.5纳米波长光源将半导体电路印制到晶圆上，这对于生产更小、更复杂的半导体电路来说是极为关键的。三星在2019年将EUV引入制程，并且后来还提升了第六代10纳米级DRAM的生产。
然而，SK海力士在今年却解散了EUV TF，并将其并入未来技术研究院。这一举措凸显出SK海力士更加关注长期的技术进步，而非提高产量。SK海力士在2021年利用EUV生产第四代10纳米级DRAM，目前在其利川M16工厂拥有多台EUV设备。SK海力士未来技术研究所预计准备引入下一代EUV，也就是High - NA EUV，最快可能在2025年下半年收到第一台High - NA EUV。
韩国市场人士指出，三星利用EUV来改善良率和提高产能，这表明在代工和HBM（高带宽内存）方面落后的三星急于寻找突破点。而SK海力士则将EUV用于技术发展，目的是保持领先地位并为未来发展做好准备，由此可以看出两家公司面临着不同的挑战。