SK海力士率先采用ASML High NA EUV设备进行量产

SK海力士宣布，在位于韩国利川的M16晶圆厂成功引进并开始使用高数值孔径（High NA）极紫外光（EUV）微影设备进行量产。这一举措标志着SK海力士成为业界首个正式将此类先进设备投入生产的公司。
此次引入的是阿斯麦（ASML）的EXE:5200B机型，这款设备代表了当前半导体制造技术的最前沿。通过采用这种先进的EUV设备，SK海力士旨在简化现有的EUV制程，加速新一代存储器的研发进程，从而提升产品的性能和成本竞争力。
随着半导体行业对芯片性能要求的不断提高，传统的制造工艺逐渐达到其物理极限。High NA EUV技术的应用被视为突破这些限制的关键一步。它能够提供更高的分辨率和更小的线宽，使得在相同面积的硅片上集成更多的晶体管成为可能，进而推动存储器密度和速度的显著提升。
SK海力士的这一举动不仅展示了其在技术创新方面的领先地位，也为整个半导体行业设定了新的标杆。此举有望促进更多企业加大对先进制造技术的投资力度，加快全球半导体产业的技术进步。
面对日益激烈的市场竞争和技术挑战，SK海力士通过引入High NA EUV设备，进一步巩固了自身在全球存储器市场的竞争地位，并为未来的持续发展奠定了坚实的基础。未来，随着更多基于此技术的产品上市，消费者和企业用户可以期待体验到更加高效、可靠的存储解决方案。