阿斯麦高层换帅：EUV光刻机需求激增，中国市场面临挑战

全球光刻机巨头阿斯麦（ASML）近期宣布，任命Marco Pieters为新任首席技术官，接替即将卸任的原CTO。公司表示，此次人事变动旨在强化技术领导力，推动极紫外光（EUV）等核心技术的持续创新。与此同时，阿斯麦发布了最新财报，第三季度净销售额达75亿欧元，毛利率为51.6%，订单总额高达54亿欧元，超出市场预期，显示出强劲的市场需求。  
公司最新推出的XT:260三维整合光刻系统，生产效率较现有方案提升四倍，进一步巩固了其在先进制程领域的领先地位。作为全球唯一能够量产EUV光刻机的企业，阿斯麦正受益于人工智能、高性能计算和数据中心建设的爆发式增长。全球多家科技巨头，包括OpenAI和微软，已宣布大规模投资数据中心，推动对先进芯片的旺盛需求，进而带动对高端光刻设备的采购。  
尽管整体业绩亮眼，但阿斯麦也面临地缘政治带来的挑战。公司首席执行官Christophe Fouquet表示，预计2026年在中国市场的销售额将显著下滑，主要受美国出口管制政策影响。目前，中国是阿斯麦最大的单一市场，第三季度销售额占比达42%。然而，随着中美科技竞争加剧，美国政府持续收紧对华半导体设备出口，同时中国也对用于14纳米及以下逻辑芯片、256层及以上存储芯片生产的稀土材料实施出口审批管理，全球半导体供应链的不确定性增加。  
面对复杂环境，阿斯麦财务总监表示，公司已提前布局供应链，确保关键材料的稳定供应。管理层预计，2026年公司总净销售额将不低于2025年水平，增长动力主要来自EUV设备的销售。公司重申长期目标，计划到2030年将年收入提升至600亿欧元。分析机构指出，尽管中国市场短期承压，但全球AI算力需求的持续扩张，将为阿斯麦的高端设备创造广阔市场空间。