三星加速2纳米量产，ASML组建专项团队助阵德州产线

在全球先进制程竞赛持续升温的背景下，三星正全力推进其2纳米芯片的量产进程。据韩国媒体报道，半导体设备巨头阿斯麦（ASML）已在美国德州奥斯汀地区组建专门的现场服务团队，协助三星在其泰勒工厂安装极紫外光（EUV）光刻设备，为2纳米环绕式栅极（GAA）制程的正式投产铺平道路。
这一动向标志着三星距离实现2纳米大规模量产又近一步。据悉，阿斯麦近期在当地公开招聘“现场服务工程师”，职位描述明确指出将支持三星EUV设备的初始启动、安装与调试。业内人士分析，此举不仅是为了加快设备部署速度，更是为提升2纳米制程的良率和稳定性提供关键保障。没有阿斯麦的EUV光刻机，2纳米先进制程几乎无法实现。
目前，三星泰勒工厂已接近投产阶段。此前有消息称，三星已于9月底开始小批量生产其自研的Exynos 2600移动处理器，初期月产能仅约1.5万片，反映出先进制程在量产初期仍面临良率挑战。而阿斯麦的深度介入，有望显著缩短技术爬坡周期。
值得注意的是，高通已收到采用三星2纳米工艺制造的骁龙8 Elite Gen 5处理器样品。若后续良率表现稳定、产能持续提升，高通或将正式将三星纳入其高端芯片的代工供应链，这也将成为三星在先进制程领域挑战台积电的重要契机。
当前，2纳米已成为全球半导体产业的战略制高点。台积电计划于2025年下半年量产2纳米芯片，而三星则试图通过美国本土产能加速追赶。在地缘政治与供应链安全双重驱动下，美国政府大力支持本土先进制程制造，三星德州工厂也因此获得政策与资源倾斜。
阿斯麦此次组建“泰勒专项团队”，不仅体现了设备厂商与晶圆代工厂之间日益紧密的协同关系，也凸显了EUV光刻技术在先进制程中的不可替代性。随着2纳米竞赛全面打响，全球半导体格局或将迎来新一轮洗牌。对全球产业链而言，这场技术与产能的双重较量，既是挑战，也是推动自主创新与合作升级的重要契机。