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三星电子加码AI存储器投资扩充产能,全面布局先进制程

* 来源 : * 作者 : admin * 发表时间 : 2026-01-29
面对人工智能对高性能存储器的强劲需求,三星电子正大幅增加2025年资本支出,重点扩产1c纳米级DRAM与V9代NAND闪存。公司表示,已提前获取新生产空间与洁净室资源,可在确认需求后快速启动设备安装,抢占供应先机。这一策略源于对AI驱动的结构性增长判断——数据中心、大模型训练与边缘推理共同构筑了对高带宽、大容量存储芯片的刚性需求,远超传统消费电子周期。
支撑该战略的核心是位于基兴园区的“NRD-K”先进研发中心。该设施于2025年第二季度投入运营,集基础研发、产品验证与量产导入于一体,显著缩短技术落地周期。三星将持续扩建该中心,加速1c DRAM开发。该工艺不仅是通用DDR5升级的关键,更是HBM4高带宽内存的基础。三星已实现11.7Gbps HBM4稳定量产,并结合4纳米基底芯片提升性能与良率。在NAND领域,V9工艺将支持更高层数3D堆叠,满足企业级固态硬盘对密度与耐久性的要求,巩固其在AI存储器超级周期中的技术主导地位。