ASML EUV已无法追上 韩国盼以X光曝光技术逆转

韩国半导体业高度依赖阿斯麦EUV设备，被视为战略风险。为此，业界正加大对“X光曝光技术”的早期投入，希望在下一代光刻技术中实现突破，摆脱单一供应商依赖。尽管X光技术仍处研发初期，面临光源、掩模等多重挑战，但韩国认为提前布局有助于未来掌握技术标准话语权，构建更具韧性的产业生态。