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台积电扩产利好设备商,ASML与应用材料迎长期增长机遇

* 来源 : * 作者 : admin * 发表时间 : 2026-02-07
作为全球半导体制造龙头,中国台湾台积电的扩产计划正成为半导体设备行业的“定心丸”。尽管短期市场存在波动,但人工智能、云计算及高端移动处理器的持续需求,确保台积电在5纳米及3纳米先进制程上的产能利用率维持高位。其资本开支的稳定增长,直接为阿斯麦(ASML)、应用材料(Applied Materials)等设备制造商带来可观订单,形成“台积电扩产—设备商受益—技术迭代加速”的良性循环。
台积电的市场地位使其扩产决策具有风向标意义。当它宣布增加3纳米及更先进制程产能时,意味着下游AI芯片、智能手机SoC等高附加值产品需求强劲,进而拉动光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备等全链条采购。阿斯麦作为EUV光刻机唯一供应商,其High-NA EUV设备订单已排至2027年;应用材料则在原子层沉积(ALD)、化学气相沉积(CVD)等领域占据主导,受益于先进制程对薄膜精度的严苛要求。此外,台积电扩产不仅利好前道设备,更强化其在先进封装领域的护城河。随着CoWoS等封装技术成为AI芯片标配,台积电正加大面板级封装(PLP)投入,这又将带动测试、切割、贴片等后道设备需求。整体而言,在AI驱动的半导体超级周期中,台积电作为“链主”企业,其每一步扩产都牵动全球设备供应链神经。对阿斯麦与应用材料而言,这不仅是短期订单红利,更是长期技术合作与市场份额巩固的战略机遇。