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三星HBM4E:2nm工艺绝地反击

* 来源 : * 作者 : admin * 发表时间 : 2026-03-15
在HBM市场曾被SK海力士超越的三星,正试图通过激进的工艺升级夺回失地。三星宣布将在下一代HBM4E内存中,将基底(Base Die)芯片直接升级至2nm工艺。
作为对比,三星当前HBM4仍采用4nm工艺,而SK海力士的基底芯片甚至还在使用台积电12nm工艺。升级至2nm后,HBM4E在发热控制、能效及芯片利用率上预计将有质的飞跃。随着Exynos 2600的量产,三星2nm工艺已获特斯拉追加订单,月产能有望翻倍至4万片,彻底摆脱过往“拉胯”的形象。