决战1c节点：存储双雄疯狂扫货EUV光刻机

2026年的半导体圈上演了一场现实版的“抢椅子”游戏，筹码正是阿斯麦（ASML）的EUV光刻机。
SK海力士的重注： 已正式宣布将在2027年底前采购价值约80亿美元的EUV设备，主要用于龙仁新厂和清州M15X工厂，以扩充先进DRAM和HBM产能。三星的反击： 尽管官方未完全证实，但市场传闻其已订购约70台光刻机。作为1c DRAM技术的领跑者，三星计划在2026年将月产能提升至20万片，意图在通用DRAM市场压制对手。这场豪赌的背后是技术路线的抉择。相较于复杂的HBM 3D堆叠，1c DRAM能更高效地复用现有产线，快速响应AI服务器对高性价比内存的需求。然而，阿斯麦的产能释放缓慢，且积压订单严重，两大巨头的争抢势必挤压台积电等其他客户的配额。这也引发了业界对2028年可能出现的产能过剩风险的担忧，但在生存与竞争力的面前，当下的扩产已成为必然选择。