DRAM成本将大幅降低？SK海力士计划在M16产线中引入EUV工艺

据韩媒报道，SK海力士内部已经成立了研究小组专门针对EUV光刻相关技术展开研究，并计划将其应用于最新的DRAM产线，为即将到来的EUV时代做准备。

值得注意的是，SK海力士也在EUV工艺相关材料领域进行了投资。业内人士表示，SK海力士自去年初就开始研究EUV技术中需要使用的TF材料。
报道称，TF研究相关部门已经由SK海力士副总裁郑泰佑接任。郑泰佑是蚀刻技术的专家，曾参与SK海力士首个10nm DRAM“Arius”的开发项目以及下一代NAND闪存的研发过程。
EUV工艺相较于现有光刻工艺波长更短，仅为十四分之一，可以用作形成精细图案，能够减少光刻次数，近而降低成本。当然，由于EUV机台十分昂贵，动辄十亿元的价格，厂商在前期的投入也将十分巨大。
在EUV产线的建立方面，SK海力士也在积极推进，并计划在利川厂M16产线中引入EUV制程。
此外，SK海力士还计划通过投资和收购EUV材料制造商确保技术的先进性。