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飞跃式突破!第一台28nm国产光刻机交付在即

* 来源 : * 作者 : admin * 发表时间 : 2020-06-07
据媒体报道,上海微电子装备(集团)股份有限公司披露,将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机。
虽然这与当今国际顶尖的7nm乃至是5nm光刻机还有数代的隔阂,但是差距已经大大缩小,毕竟在此之前国产光刻机还是90nm。
据悉,上海微电子是国内技术最领先的光刻设备厂商,从低端切入各个细分市场,现已成为封测龙头企业的重要供应商,国内市场占有率高达80%,全球市场占有率也有40%,同时旗下LED/MEMS/功率器件光刻机性能指标领先,LED光刻机市占率第一。
上海微电子现有4大系列的光刻机产品,其中600系列步进扫描投影光刻机面向IC前道制造,采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术,以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术,可用于90nm、110nm、280nm工艺和200mm、300mm晶圆生产。500系列面向IC后道先进封装,300系列面向LED、MEMS、功率器件制造,200系列面向TFT曝光。