半导体业拚EUV 三星、SK海力士、美光等三大DRAM厂的EUV竞赛已经开跑

全球五大半导体厂建置EUV全新生产线，相关设备业者接单满载。
半导体先进微影技术由浸润式（immersion）转向极紫外光（EUV）势不可挡，包括英特尔、台积电、三星、SK海力士等全球前四大半导体厂已开始全面导入EUV技术并建置全新生产线，第五大厂美光亦传出加速评估在DRAM制程采用EUV技术，不仅艾司摩尔（ASML）EUV曝光机产能满载到2022年之后，法人看好家登（3680）、帆宣（6196）、崇越（5434）、翔名（8091）、公准（3178）等EUV概念股接单旺到明年。
在逻辑制程部份，台积电、三星晶圆代工在去年已开始采用EUV技术量产7奈米制程，今年底前两家业者也开始量产EUV光罩层数倍增的5奈米。英特尔则预期导入EUV的7奈米制程明年进入生产。其中，台积电在EUV布局大幅领先同业，已成为全球拥有最大EUV产能的半导体厂，南科Fab 18A厂将在明年上半年完成月产能达9万片的5奈米产能建置，Fab 18B厂预期会在2022年量产EUV光罩层逾20层的3奈米。
在DRAM制程的部份，包括三星、SK海力士、美光等三大DRAM厂的EUV竞赛已经开跑。三星1Z奈米开始采用EUV技术，今年3月宣布基于EUV的10奈米DDR4出货逾百万颗，8月再宣布平泽P2厂导入EUV技术量产16Gb LPDDR5。
SK海力士已评估在1a奈米采用EUV技术，利川M16厂预期明年上半年量产基于EUV的DDR5。美光则加速评估EUV导入时间及制程节点，预期2021年规划在台湾兴建的A5厂可能会建置EUV产线。
全球前五大半导体厂转向EUV，推升ASML的EUV曝光机接单满到2022年之后，ASML第二季底在手EUV曝光机订单已达54台，业界估计今年底有机会上看70台。法人看好EUV机台次系统模组代工厂帆宣、精密零件供应商公准等下半年接单畅旺，订单能见度看到了明年下半年。
此外，台积电、三星、英特尔等大厂持续扩建EUV产能，且制程微缩至5奈米及3奈米的EUV光罩层数倍数增加，提供EUV光罩盒（EUV Pod）的家登受惠最大，今、明两年产能均已被大客户预订一空，打进EUV Pod表面处理及镀膜制程的翔名同步受惠。至于EUV产能大幅提高，代理EUV光阻液的崇越接单畅旺，订单同样排到明年下半年。