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吴敏求:旺宏19奈米SLC NAND产品良率极佳

* 来源 : * 作者 : admin * 发表时间 : 2021-05-11
记忆体厂旺宏董事长吴敏求在致股东报告书中表示,19 奈米 SLC NAND Flash 系列产品良率极佳,新品新应用陆续进入验证阶段;3D NAND 方面,48 层产品已完成开发,将朝 192 层堆叠技术的目标冲刺。
吴敏求指出,近年来,旺宏在 NAND 与 3D 堆叠技术上,提出多篇兼具学术与商业价值的论文及相关专利,并超前部署下世代记忆体产业技术。去年研发费用约占全年营收 10%,主要投注在前瞻性技术的研发与生产制程的精进,截至去年底,已累计拥有全球 8320 件专利。
关于制程与产品发展,吴敏求指出,NOR Flash 制程朝 45 奈米推进;且 256Mb 以上高密度产品占 NOR Flash 营收比重逐年增加,去年已达 36%;而公司在车用、工业、医疗及航太等高品质应用领域的 NOR Flash 营收占比达 27%,未来可望成为 NOR Flash 产品主要成长动能。
在 NAND Flash 方面,吴敏求指出,19 奈米 SLC NAND Flash 系列产品良率极佳,新产品新应用也陆续进入验证阶段。至于 3D NAND 方面,已完成第一阶段 48 层产品开发,量产后将可逐步贡献营收,将朝 192 层堆叠技术的目标冲刺。
随着人工智慧 (AI)、5G、物联网 (IoT) 等新型应用,以及车用电子、工业应用、行动装置等数位科技之蓬勃发展,记忆体晶片应用领域更为广泛。
吴敏求表示,旺宏 19 奈米 Serial NAND Flash,率先在应用上提出由主晶片处理 ECC 的创新主张,已成为最佳品质及成本效率典范;19 奈米 SLC NAND 记忆体也取得 NAND 重要成本优势,全面进入业界领先制程。
此外,由于物联网 (IoT)、智慧装置资安防护日趋重要,车用电子系统整合度与复杂度也越来越高,吴敏求指出,旺宏 ArmorFlash 已具备关键的安全性元件设计,预期未来,高阶安全记忆体必将扮演关键的角色。