台积电宣布N7+制程已大量进入市场

台积电先进制程拓展又有新进度，公司宣布，领先业界导入极紫外光（EUV）微影技术的7纳米强效版（N7+）制程已协助客户产品大量进入市场；6纳米制程技术（N6）也将于2020年第1季试产、年底前量产。受惠利多消息，台积电美国存托凭证（ADR）、8日台股价双双再创历史新高价，盘中市值逾7.39万亿新台币改写新高。
台积电7日晚间发布先进制程新进展，台积电表示，N7+基于7纳米制程技术（N7）上，并为6纳米和更先进制程奠定良好基础。N7 +量产速度为史上量产速度最快的制程之一，于2019年第2季开始量产，在N7量产超过1年时间的情况下，N7+良率与N7已相当接近。
此外，N7 +同时提升了整体效能，逻辑密度比N7提高15-20%，并同时降低功耗，成为业界下一波产品中更受欢迎的制程选择。台积电也快速布建产能以满足多个客户对于N7 +的需求。台积电补充说，EUV设备已达成熟生产的实力，机台也达大量生产目标，日常运作输出功率均大于250瓦。
值得注意的是，台积电强调，受惠N7+的成功经验，N6预计将于2020年第1季进入试产，并在年底前步入量产。随EUV微影技术进一步应用，N6的逻辑密度将比N7提高18%，且因N6与N7在设计法则上完全相容，亦可大幅缩短客户产品上市时间。
业务开发副总经理张晓强表示，AI和5G的应用为芯片设计开启更多可能，台积电客户充满创新及领先的设计理念，通过公司技术和制造能力均得以实现；他还强调，台积电在EUV微影技术上的成功，显示不仅能够具体落实客户的领先设计，更因卓越的制造能力，能使其大量生产。台积电宣示7纳米N7+制程已协助客户产品大量进入市场，对比竞争对手迟未释出先进制程大量量产近况，更凸显其在7纳米的业界领导地位。