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台积电宣布N7+制程已大量进入市场

* 来源 : * 作者 : admin * 发表时间 : 2019-10-08
台积电先进制程拓展又有新进度,公司宣布,领先业界导入极紫外光(EUV)微影技术的7纳米强效版(N7+)制程已协助客户产品大量进入市场;6纳米制程技术(N6)也将于2020年第1季试产、年底前量产。受惠利多消息,台积电美国存托凭证(ADR)、8日台股价双双再创历史新高价,盘中市值逾7.39万亿新台币改写新高。
台积电7日晚间发布先进制程新进展,台积电表示,N7+基于7纳米制程技术(N7)上,并为6纳米和更先进制程奠定良好基础。N7 +量产速度为史上量产速度最快的制程之一,于2019年第2季开始量产,在N7量产超过1年时间的情况下,N7+良率与N7已相当接近。
此外,N7 +同时提升了整体效能,逻辑密度比N7提高15-20%,并同时降低功耗,成为业界下一波产品中更受欢迎的制程选择。台积电也快速布建产能以满足多个客户对于N7 +的需求。台积电补充说,EUV设备已达成熟生产的实力,机台也达大量生产目标,日常运作输出功率均大于250瓦。
值得注意的是,台积电强调,受惠N7+的成功经验,N6预计将于2020年第1季进入试产,并在年底前步入量产。随EUV微影技术进一步应用,N6的逻辑密度将比N7提高18%,且因N6与N7在设计法则上完全相容,亦可大幅缩短客户产品上市时间。
业务开发副总经理张晓强表示,AI和5G的应用为芯片设计开启更多可能,台积电客户充满创新及领先的设计理念,通过公司技术和制造能力均得以实现;他还强调,台积电在EUV微影技术上的成功,显示不仅能够具体落实客户的领先设计,更因卓越的制造能力,能使其大量生产。台积电宣示7纳米N7+制程已协助客户产品大量进入市场,对比竞争对手迟未释出先进制程大量量产近况,更凸显其在7纳米的业界领导地位。