台积电史上最高资本支出，ASML 成半导体军备赛最大赢家
* 来源 : * 作者 : admin * 发表时间 : 2019-11-03
台积电在 10 月 17 日召开的第 3 季法说会上，宣布上调资本支出 40 亿元，由原先的 100~110 亿美元，大幅上调至 140~150 亿美元，创下台积电单年资本支出的新高纪录。
而早在 10 月 7 日，台积电抢在法说会前所发布的一则新闻稿，已悄悄凸显出当前半导体大厂 EUV（极紫外光刻）军备竞赛的热度。新闻稿中宣布，导入 EUV 微影技术的 7 纳米强效版（N7+）制程，已于第 2 季开始量产。台积电宣称，7 纳米制程量产已超过 1 年的情况下，N7+ 良率与 7 纳米已相当接近。台积电此举被外界解读为，是要向抢先量产 EUV 但良率似乎不如预期的三星“示威”。
在法说会上宣布新增的 40 亿美元资本支出，就包含采购多台单价逾 1 亿美元的 EUV 微影设备。台积电企业讯息处资深处长孙又文向《财讯》证实，“除了 7 纳米之外，所有先进节点如 6 纳米、5 纳米等，都将采用 EUV 作为制程的一部分。但浸润式微影仍然是未来所有先进制程节点的重要工具。”尽管台积电在 7 纳米以下的更先进纳米制程中，EUV 与浸润式微影技术将并重，但未来势必对于 EUV 机台采购需求看涨。
波长新里程 突破摩尔定律
巧合的是，就在 10 月 15 日，全球半导体光刻设备龙头艾司摩尔（ASML）在法说会前一天，其于欧洲与美国那斯达克挂牌的股票，股价分别以 243.2 欧元与 267.54 美元，双双创下历史新高纪录，今年以来的涨幅也分别高达逾 76% 和 71%。
为何这个来自荷兰费尔德霍芬市的半导体设备大厂股价会涨翻天？答案就是：由艾司摩尔独家提供的 EUV 微影技术，这正是台积电为持续维持技术领先，大力加码投资的新设备。
过去 20 年，全球半导体厂商都仰赖当时最先进的浸润式微影机台，采用 193 纳米波长的光刻出电路图案；然而，随着芯片微缩愈来愈精细，浸润式微影技术已无法应付，导致摩尔定律恐难以再延续。因此台积电、英特尔、三星等半导体大厂都引颈期盼着，艾司摩尔展开研发的波长仅有 13.5 纳米的 EUV 微影机台，可以突破浸润式微影机台在半导体制程的技术瓶颈。
然而，EUV 微影机台的研发难度更高，研发费用也持续垫高，让艾司摩尔愈来愈吃不消，原本应该在 2005 年就该量产，进度却一再延宕。为加快 EUV 研发进度，2012 年，英特尔、台积电、三星展开一项创举—向他们的设备供应商艾司摩尔投入了大量资金。
当时，3 大巨头总共投资高达 38.5 亿欧元，取得约 23% 股份，其中英特尔拥有 15%、三星取得 3%、台积电则有约 5% 的股份。英特尔还额外投资艾司摩尔的研发计划 33 亿美元；三星也为研发计划挹注 2.76 亿欧元。
经过漫长研发，如今艾司摩尔是全球唯一可量产 EUV 微影设备的大厂，无论三星、台积电、英特尔、中芯国际等半导体大厂，全都要靠艾司摩尔生产的 EUV 微影设备，才能在先进纳米制程中导入 EUV 微影技术。
随着三星、台积电的 EUV 制程相继成功投产，英特尔也在加速 EUV 制程进展，未来还有更多中国半导体大厂也将在 EUV 制程摩拳擦掌，一场世界级的 EUV 军备竞赛已如火如荼开打，角色如同“军火商”的艾司摩尔自然是最大赢家。
果然，就在 10 月 16 日，艾司摩尔的第 3 季法说会上，总裁暨执行长温彼得（Peter Wennink）揭露令外界眼睛为之一亮的消息，“我们在第 3 季完成 7 台 EUV 出货，其中 3 台是 NXE:3400C（产能更大的最新型号）。同时接到来自逻辑与存储器客户的 23 台 EUV 新订单，不仅让创下我们单季最高订单金额纪录，达 51.11 亿欧元（折合新台币达 1,763.8 亿元），也证实逻辑和存储器芯片客户均积极将 EUV 微影技术导入芯片量产。总结来说，我们对于 2019 年的整体营收目标维持不变，今年对于艾司摩尔来说仍是成长的 1 年。”
订单纷至 第 4 季毛利惊人
展望第 4 季，温彼得仍深具信心地表示，预计第 4 季销售净额将达约 39 亿欧元（折合新台币达约 1,346 亿元），这将创下历史新高。此外，第 4 季毛利率将高达 48%~49% 之间，大大高于第 3 季度的 43.7%。利润预期将会提高的主因来自于 EUV 微影最新型号机台 NXE:3400C，具备更高的 ASP（平均销售价格）。
孙又文指出，“鉴于明年 5G 部署的前景更加乐观，在过去的数个月中，对 7 纳米与 5 纳米的需求已显著增加，”因此，台积电决定将 2019 年全年的资本支出增加 40 亿美元，以满足不断增长的需求。“在新增的 40 亿美元资本支出中，约 15 亿美元用于 7 纳米产能，25 亿美元用于 5 纳米产能。”
而且，孙又文更进一步透露，台积电目前计划明年的资本支出与修订后的 2019 年资本支出有些相似。换言之，明年台积电的资本支出也与今年不分轩轾，当中也包含采购更多 EUV 微影设备的费用。
艾司摩尔的前景一片光明，让外资也按赞。
10 月 16 日，摩根大通出具一份报告，给予艾司摩尔的评价是优于大盘，并订定年底前目标价为 240 欧元，此一目标价格是由于预估 2025 年每股盈余将达 18 欧元，本益比 13 倍，“我们提高了倍数，以反映出 EUV 在市场渗透率上有更好的能见度。”若观察近期艾司摩尔的股价表现，可发现此一论点也颇获市场认同。
若以平均每两年推出 1 个先进纳米制程估算，以目前可预知的 7 纳米、6 纳米、5 纳米、3 纳米、2 纳米制程，凭藉着 EUV 微影机台，未来艾司摩尔至少有 10 年的好光景。特别是，随着半导体大厂军备竞赛打得更加激烈，艾司摩尔身为全球独家 EUV 设备供应商，也将更展现出赢者全拿的气势。
而早在 10 月 7 日，台积电抢在法说会前所发布的一则新闻稿，已悄悄凸显出当前半导体大厂 EUV（极紫外光刻）军备竞赛的热度。新闻稿中宣布，导入 EUV 微影技术的 7 纳米强效版（N7+）制程，已于第 2 季开始量产。台积电宣称，7 纳米制程量产已超过 1 年的情况下，N7+ 良率与 7 纳米已相当接近。台积电此举被外界解读为，是要向抢先量产 EUV 但良率似乎不如预期的三星“示威”。
在法说会上宣布新增的 40 亿美元资本支出，就包含采购多台单价逾 1 亿美元的 EUV 微影设备。台积电企业讯息处资深处长孙又文向《财讯》证实，“除了 7 纳米之外，所有先进节点如 6 纳米、5 纳米等，都将采用 EUV 作为制程的一部分。但浸润式微影仍然是未来所有先进制程节点的重要工具。”尽管台积电在 7 纳米以下的更先进纳米制程中，EUV 与浸润式微影技术将并重，但未来势必对于 EUV 机台采购需求看涨。
波长新里程 突破摩尔定律
巧合的是，就在 10 月 15 日，全球半导体光刻设备龙头艾司摩尔（ASML）在法说会前一天，其于欧洲与美国那斯达克挂牌的股票，股价分别以 243.2 欧元与 267.54 美元，双双创下历史新高纪录，今年以来的涨幅也分别高达逾 76% 和 71%。
为何这个来自荷兰费尔德霍芬市的半导体设备大厂股价会涨翻天？答案就是：由艾司摩尔独家提供的 EUV 微影技术，这正是台积电为持续维持技术领先，大力加码投资的新设备。
过去 20 年，全球半导体厂商都仰赖当时最先进的浸润式微影机台，采用 193 纳米波长的光刻出电路图案；然而，随着芯片微缩愈来愈精细，浸润式微影技术已无法应付，导致摩尔定律恐难以再延续。因此台积电、英特尔、三星等半导体大厂都引颈期盼着，艾司摩尔展开研发的波长仅有 13.5 纳米的 EUV 微影机台，可以突破浸润式微影机台在半导体制程的技术瓶颈。
然而，EUV 微影机台的研发难度更高，研发费用也持续垫高，让艾司摩尔愈来愈吃不消，原本应该在 2005 年就该量产，进度却一再延宕。为加快 EUV 研发进度，2012 年，英特尔、台积电、三星展开一项创举—向他们的设备供应商艾司摩尔投入了大量资金。
当时，3 大巨头总共投资高达 38.5 亿欧元，取得约 23% 股份，其中英特尔拥有 15%、三星取得 3%、台积电则有约 5% 的股份。英特尔还额外投资艾司摩尔的研发计划 33 亿美元；三星也为研发计划挹注 2.76 亿欧元。
经过漫长研发，如今艾司摩尔是全球唯一可量产 EUV 微影设备的大厂，无论三星、台积电、英特尔、中芯国际等半导体大厂，全都要靠艾司摩尔生产的 EUV 微影设备，才能在先进纳米制程中导入 EUV 微影技术。
随着三星、台积电的 EUV 制程相继成功投产，英特尔也在加速 EUV 制程进展，未来还有更多中国半导体大厂也将在 EUV 制程摩拳擦掌，一场世界级的 EUV 军备竞赛已如火如荼开打，角色如同“军火商”的艾司摩尔自然是最大赢家。
果然，就在 10 月 16 日，艾司摩尔的第 3 季法说会上，总裁暨执行长温彼得（Peter Wennink）揭露令外界眼睛为之一亮的消息，“我们在第 3 季完成 7 台 EUV 出货，其中 3 台是 NXE:3400C（产能更大的最新型号）。同时接到来自逻辑与存储器客户的 23 台 EUV 新订单，不仅让创下我们单季最高订单金额纪录，达 51.11 亿欧元（折合新台币达 1,763.8 亿元），也证实逻辑和存储器芯片客户均积极将 EUV 微影技术导入芯片量产。总结来说，我们对于 2019 年的整体营收目标维持不变，今年对于艾司摩尔来说仍是成长的 1 年。”
订单纷至 第 4 季毛利惊人
展望第 4 季，温彼得仍深具信心地表示，预计第 4 季销售净额将达约 39 亿欧元（折合新台币达约 1,346 亿元），这将创下历史新高。此外，第 4 季毛利率将高达 48%~49% 之间，大大高于第 3 季度的 43.7%。利润预期将会提高的主因来自于 EUV 微影最新型号机台 NXE:3400C，具备更高的 ASP（平均销售价格）。
孙又文指出，“鉴于明年 5G 部署的前景更加乐观，在过去的数个月中，对 7 纳米与 5 纳米的需求已显著增加，”因此，台积电决定将 2019 年全年的资本支出增加 40 亿美元，以满足不断增长的需求。“在新增的 40 亿美元资本支出中，约 15 亿美元用于 7 纳米产能，25 亿美元用于 5 纳米产能。”
而且，孙又文更进一步透露，台积电目前计划明年的资本支出与修订后的 2019 年资本支出有些相似。换言之，明年台积电的资本支出也与今年不分轩轾，当中也包含采购更多 EUV 微影设备的费用。
艾司摩尔的前景一片光明，让外资也按赞。
10 月 16 日，摩根大通出具一份报告，给予艾司摩尔的评价是优于大盘，并订定年底前目标价为 240 欧元，此一目标价格是由于预估 2025 年每股盈余将达 18 欧元，本益比 13 倍，“我们提高了倍数，以反映出 EUV 在市场渗透率上有更好的能见度。”若观察近期艾司摩尔的股价表现，可发现此一论点也颇获市场认同。
若以平均每两年推出 1 个先进纳米制程估算，以目前可预知的 7 纳米、6 纳米、5 纳米、3 纳米、2 纳米制程，凭藉着 EUV 微影机台，未来艾司摩尔至少有 10 年的好光景。特别是，随着半导体大厂军备竞赛打得更加激烈，艾司摩尔身为全球独家 EUV 设备供应商，也将更展现出赢者全拿的气势。
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